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专利名称：TFT阵列基板的制作方法专利类型：发明专利发明人：郑明丰
申请号：CN2018115854.8申请日：20181224公开号：CN109686698A公开日：20190426
摘要：本发明提供一种TFT阵列基板的制作方法。该TFT阵列基板的制作方法通过PFA工艺在色阻层上形成平坦层，该平坦层上会产生一些缺陷，然后对缺陷进行研磨修补，去除缺陷，研磨修补会在缺陷处使平坦层及色阻层磨破以暴露出钝化层，在暴露出的钝化层上形成一层保护膜，然后在所述平坦层上形成一层电极薄膜，对电极薄膜图案化处理形成像素电极层时，可以防止图案化处理时破坏钝化层，避免像素电极层与TFT层短路，提高研磨修补成功率。
申请人：深圳市华星光电技术有限公司
地址：518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
国籍：CN
代理机构：深圳市德力知识产权代理事务所
代理人：林才桂
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