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专利名称：载体膜和电子零件的制造方法专利类型：发明专利发明人：山元一生,浅井良太申请号：CN201880025656.5申请日：20180417公开号：CN110521291A公开日：20191129
摘要：本发明提供当通过紫外线激光在成形于载体膜上的片材构件上形成作为贯通孔和盲孔中至少一种的孔时可抑制两者的界面附近处的过度的加工的载体膜和使用它的电子零件的制造方法。载体膜(10)用于片材构件(20)的成形，当被照射具有中心波长为355nm～365nm并包含375nm以上波长的波长分布的紫外线激光(B)时，载体膜(10)中，紫外线激光(B)的波长分布中的不足375nm的成分的吸收率为50％以上，紫外线激光(B)的波长分布中的375nm以上的成分的吸收率不足50％。
申请人：株式会社村田制作所
地址：日本京都府
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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