专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种反应腔装置及其工作方法专利类型：发明专利
发明人：邱勇,吴堃,张朋兵,陈世名申请号：CN202110023597.1申请日：20210108公开号：CN112614771A公开日：20210406
摘要：一种反应腔装置及其工作方法，反应腔装置包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆，所述晶圆承载平台沿着晶圆承载平台的上表面包括若干个间隔的温控区域，各温控区域之间具有热隔离通道。所述反应腔装置能够提高晶圆表面反应的均匀性和对称性。
申请人：上海谙邦半导体设备有限公司
地址：201306 上海市浦东新区环湖西二路888号C楼
国籍：CN
更多信息请下载全文后查看
