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专利名称：清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统专利类型：发明专利
发明人：吴炅桓,吴允锡,李虎烈,朴修满,朴元基,张永日申请号：CN201910567532.6申请日：20190627公开号：CN111215387A公开日：20200602
摘要：公开了清洁半导体设备的方法和半导体设备管理系统。所述清洁半导体设备的方法包括：监控半导体设备的管道中的流体的状态；通过使用借助监控收集的数据来构建数据库；基于通过监控收集并储存在数据库的数据来诊断管道的状态；以及在管道的状态被诊断为异常时通过使用超声波来清洁管道。通过使用至少两个超声波发生器来清洁管道。
申请人：三星电子株式会社
地址：韩国京畿道水原市
国籍：KR
代理机构：北京铭硕知识产权代理有限公司
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