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专利名称：聚焦离子束装置和调整离子束光学系统的方法专利类型：发明专利
发明人：杉山安彦,麻畑达也,土井利夫,大庭弘申请号：CN201310083996.2申请日：20130315公开号：CN103311080A公开日：20130918
摘要：本发明提供了一种聚焦离子束装置和调整离子束光学系统的方法。聚焦离子束装置包括控制部，其用于预先在聚束电压表中存储针对多个孔阑中的所有孔阑的用于获得基准束电流的聚束电压的计算值；对于基准孔阑获得用于获得基准束电流的聚束电压的实验值；通过从用于基准孔阑的实验值减去为基准孔阑存储的计算值来获得聚束电压的校正值；通过将校正值与为各孔阑存储的计算值相加来获得聚束电压的设置值；以及将所获得的设置值存储在聚束电压表中。
申请人：日本株式会社日立高新技术科学
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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