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专利名称：干蚀刻后处理方法专利类型：发明专利
发明人：邱立峰,高胜洲,黄荣龙,欧振宪,黄昌桂,陈青枫申请号：CN200410028190.4申请日：20040716公开号：CN1722376A公开日：20060118
摘要：一种干蚀刻后处理方法，其使用SF气体通入处理室内，将经干蚀刻处理的产品的表面以及处理室内壁上的干蚀刻残余物灰化(Ash)。此方法不仅可有效去除干蚀刻残余物而保证产品品质，并且可清洁设备，而减少对设备进行清洁保养的次数，增加设备的有效使用时间。
申请人：鸿富锦精密工业(深圳)有限公司,群创光电股份有限公司
地址：518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
国籍：CN
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